Herstellung einer einteiligen Silikonkautschuk-Form nach der Zweischichttechnik im Streichverfahren

Herstellung einer einteiligen Form nach der Zweischichtechnik im Streichverfahren mit Silikonkautschuk RTV/HV und Hinterfütterung mit Stewalin, Alabit oder faserverstärktem Epoxidharz.

Silikonkautschuk RTV/HV ist ein streichfähiger, standfester Kautschuk-Typ, der sich besonders dafür eignet, senkrecht stehende Reliefs im Streichverfahren abzuformen. Dieses Verfahren bietet auch bei liegenden Reliefs einige Vorteile, wenn es darum geht, teuren Silikonkautschuk einzusparen. Ein Mehraufwand an Arbeit muss allerdings in Kauf genommen werden.

Da es durch die hohe Thixotropie von RTV/HV nur sehr schwierig, die Luftblasen von der Oberfläche zu entfernen, auch wenn man mit dem Pinsel vorstreicht, empfehlen wir, wenn möglich, entweder mit RTV/NV vorzustreichen oder aber eine Mischung von ca. 1 Teil RTV/NV und einem Teil RTV/HV als Erstanstrich zu verwenden.

Bei senkrechten Abformungen ist dieser Vorgang mit RTV/HV so oft zu wiederholen, bis eine Schichtdicke von 1-1,5 cm erreicht ist. Um der Silikonkautschukhaut eine ausreichende Standfestigkeit zu geben, wird mit Stewalin hinterfüttert oder ein Polyester-Laminat (Polyester und Glasfasermatte) aufgebracht. Ebenfalls eignet sich glasfaserverstärktes Epoxidharz.

Bei liegenden Motiven genügt - je nach Stärke der Hinterschneidungen - ein 1-2 maliger Auftrag von insgesamt 3-6 mm Dicke. Zu diesem Zweck muss der vorhergehende Auftrag möglichst anvulkanisiert sein. Auch nach einer vollständigen Vulkanisation (also trockener Oberfläche) verbindet sich der Silikonkautschuk mit sich selbst.

Das abzuformende Relief wird mit einem Holzrahmen in ausreichendem Abstand und Höhe umgeben und die Silikonkautschuk-Schicht mit Stewalin hintergossen. Je nach Reliefgröße genügt eine Schichtdicke des Stewalins von 1-2 cm.

Die weitere Handhabung nach dieser Technik hergestellter Formen entspricht der von gegossenen Silikonkautschuk-Formen.